2024年9月，荷蘭政府對外宣布，限制荷蘭ASML公司將光刻機出口到中國。
其實關注光刻機領域的朋友應該知道，荷蘭政府此次的表態(tài)并不是突如其來的，甚至都不是第一次了。在過去的幾年，中國和荷蘭一直在就光刻機問題進行談判，只是一直沒有談攏。此次荷蘭突然發(fā)表限制光刻機出口中國的聲明，這無疑是一種撕破臉的表現(xiàn)。
而你說巧不巧，就在荷蘭那邊剛出了限令，中國便宣布成功研發(fā)出第一臺國產(chǎn)氟化氬光刻機，此新聞一登上熱搜。大家都在猜測：這是為了給荷蘭一個下馬威吧？
可是到底為什么中荷兩國會在光刻機這方面出現(xiàn)矛盾呢？我們自研的氟化氬光刻機，相比起頂尖的ASML光刻機，又是什么規(guī)格的技術？
為什么荷蘭要限制國內(nèi)光刻機出口中國？
首先一個很重要的原因就是大國之間博弈的結果。一直以來中國在光刻機的研發(fā)方面未有很大進展，可偏偏國內(nèi)目前半導體產(chǎn)業(yè)、芯片行業(yè)都需要光刻機的加持。從全球的范圍來看，荷蘭ASML公司的光刻機屬于第一梯隊，能夠完全滿足中國多行業(yè)的應用。
但是荷蘭作為美國的盟友，一直想要通過技術技術封鎖來限制中國的發(fā)展。尤其是像芯片這種高精尖領域。就算荷蘭并沒有想要與中國對著干的想法，但是迫于美國的施壓，荷蘭也不得不如此。此次荷蘭政府限制了1970i和1980i的出口，這兩款設備對于中國半導體行業(yè)的發(fā)展來說十分重要。
其實荷蘭之前也存在猶豫的階段，他既不想得罪美國，也不想失去中國這個龐大的市場，所以前幾年中荷兩國也是一直處于談判階段?？墒菦]想到最終荷蘭還是向美國低頭，學著美國玩起了卡脖子這一套。
荷蘭甚至還聲稱，自己這么做是為了本國國家安全著想，這一毫無邏輯的說辭顯然不被人接受，畢竟在世界各個國家，光刻機的應用并沒用和軍事或者其他能夠危害國土安全的領域有直接關系，荷蘭如此解釋，有種掩人耳目的感覺。
不過中國并沒有讓他們得逞，在荷蘭發(fā)表限制聲明后，中國立馬公布了自主研發(fā)的光刻機信息，展示了實力大國風范。
中國卡點發(fā)布自研光刻機有何深意？
荷蘭政府剛發(fā)表限制聲明不久，中國就宣布了中國首臺自主研發(fā)的光刻機——氟化氬光刻機。兩個國家一前一后的行為，讓各位網(wǎng)友們看不懂了，尤其是中國在這個時間點宣布自己的光刻機成果，顯然背后另有深意。
首先在這一次公布聲明中，中國再一次向世界展示了中國在光刻機領域的技術實力。同時也在給荷蘭政府一個警告。
簡單來說，就是荷蘭政府想通過技術封鎖打壓中國，但是中國已經(jīng)實現(xiàn)了光刻機的自主研發(fā)，如果荷蘭繼續(xù)做一些不符合事宜的事情，一旦中國自主研發(fā)的光刻機完全成熟，那么荷蘭在中國的市場份額將會面臨巨大的挑戰(zhàn)。畢竟對于荷蘭來說，失去中國市場是很疼的。
另外，中國這些年也確實沒有停下光刻機自主研發(fā)的腳步，畢竟只有掌握了自主研發(fā)生產(chǎn)，才能夠保證產(chǎn)業(yè)鏈的完整推進。
隨著中國突然卡點宣布自研光刻機的新聞一出現(xiàn)，各國網(wǎng)絡上也炸開了鍋，很多國外網(wǎng)友趁機也出來挑起了刺。他們認為，中國目前光刻機的套刻精度在8納米之下，這個技術水平根本與荷蘭沒法比，畢竟荷蘭ASML公司在20年之前就達到了這一技術水平，他們認為中國此次完全是自嗨行為。
其實看一個國家在某一領域的技術水平，并不能放在同一時間維度上來看，畢竟荷蘭ASML公司起步非常早，技術水平必然全球領先。換句話說荷蘭ASML也不是最早開始研究光刻機的，最原始的研發(fā)國家應該是日本，光刻機的奠基技術可以追隨到日本的索尼佳能公司。
目前中國能夠研發(fā)出精度在8納米以下的光刻機，本身就是一種巨大的進步。一旦有了第一款光刻機的基礎，后面國產(chǎn)光刻機的技術必然會以加速度的方式向前推進，直至能夠和國際領先水平進行媲美。
中國實現(xiàn)自主研發(fā)的意義如何？
光刻機，作為半導體領域發(fā)展的絕對技術支撐，想要完全攻克這項技術，難度是非常大的。最基礎的技術門檻以及長期的研發(fā)投入就已經(jīng)可以勸退很多國家了。所以這就是為什么哪怕中國此次研究出來的光刻機技術并未全球領先，卻足以證明中國實力的原因。
光刻機在研發(fā)的過程中，有一條非常復雜的供應鏈。也就是說，完整的上產(chǎn)一臺光刻機，只靠一個團隊或者企業(yè)是很難完成的，畢竟在制造過程中，還需要將光源、鏡片，甚至是其他零件的技術水平都要非常高的要求，并且能夠達到持續(xù)不斷地供應服務要求。早前中國在這些方面或多或少都存在短板。
另外在目前世界范圍內(nèi)，荷蘭ASML公司的光刻機技術是斷崖式領先狀態(tài)，該公司研發(fā)的EUV光刻系統(tǒng)技術是全球獨一份的，就連美國和日本這些在光刻機方面 已經(jīng)有一定研發(fā)歷史的國家面前，ASML也有絕對的底氣，所以未來這個企業(yè)必將是中國在國際市場上強有力的競爭對手。
目前中國面臨的市場環(huán)境固然嚴苛，但是我們依然不能否定中國在這方面的努力和成果。伴隨著國產(chǎn)光刻機的研發(fā)成功，標志著中國已經(jīng)可以打破國外技術封鎖的束縛?；蛘哒f未來中國在光刻機方面的需求已經(jīng)不再100%的依靠國際市場，保障了產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控性和安全性。
作為一臺國產(chǎn)光刻機，這是國內(nèi)這個行業(yè)的起點，未來中國仍然會繼續(xù)投入對光刻機的研發(fā)和生產(chǎn)，來保證半導體行業(yè)所需技術的國產(chǎn)條件。
伴隨著國產(chǎn)光刻機的出現(xiàn)，也為中國打開了世界市場的大門。畢竟在一些對光刻機精度要求并沒有那么高的國家，中國光刻機也會成為他們的選擇之一，這無疑是增加了中國光刻機在國際市場上的占有率。
總的來說，中國此次自主研發(fā)出來的氟化氬光刻機，在中國半導體行業(yè)具有里程碑式的意義，相信未來中國在這一方面必然會不斷革新，努力追趕，完全實現(xiàn)光刻機自由！
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